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목차
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Chapter 1 Introduction and Historical Perspective
Chapter 2 Modern CMOS Technology Chapter 3 Crystal Growth, Wafer Fabrication and Basic Properties of Silicon Wafers Chapter 4 Semiconductor Manufacturing-Clean Rooms, Wafer Cleaning, and Gettering Chapter 5 Lithography Chapter 6 Thermal Oxidation and the Si/Sio₂Interface Chapter 7 Dopant Diffusion Chapter 8 Ion Implantation Chapter 9 Thin Film Deposition Chapter 10 Etching Chapter 11 Back-End Technology Appendices Index |
품목정보
- 발행일
- 2011년 12월 01일
- 쪽수, 무게, 크기
- 816쪽 | 188*254*40mm
- ISBN13
- 9788945001382
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