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PART 1 반도체 소자
Chapter 1 에너지 밴드와 반도체 소재 Chapter 2 PN 접합(Junction) Chapter 3 MOSFET Chapter 4 MOSFET의 미세화와 Short Channel Effect Chapter 5 MOSFET 요소 기술 Chapter 6 DRAM Chapter 7 NAND Flash Chapter 8 메모리 비교와 차세대 메모리 PART 2 반도체 공정 Chapter 1 공정 기초 Chapter 2 플라즈마 기초 Chapter 3 포토 공정(Photolithography) Chapter 4 식각 공정(Etch) Chapter 5 박막 공정(Thin film) Chapter 6 금속 배선 공정(Metallization) Chapter 7 산화 공정(Oxidation) Chapter 8 이온주입 공정(Ion Implantation) Chapter 9 CMP 공정(CMP, Chemical-Mechanical Polishing) Chapter 10 세정 공정(Cleaning) PART 3 반도체 테스트 및 패키징 공정 Chapter 1 반도체 테스트 공정 Chapter 2 반도체 패키징 공정 PART 4 반도체 장비 Chapter 1 어플라이드 머티어리얼즈 Chapter 2 ASML Chapter 3 TEL(도쿄일렉트론) Chapter 4 램리서치 Chapter 5 세메스 Chapter 6 원익IPS |
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